Ränikarbiidtelliste tootmisprotsess

Jämeda, keskmise ja peene ränidioksiidi valem peaks olema 5:1:4. Ränikarbiidtelliste valmistamise tooraineks on üldjuhul must SiC, mille keemiline koostis on järgmine: SiC 98.0%, vaba C 0,5%, Fe 0,2%. ja tasuta SiO2 0,6%. Erinevate kombineerimismeetodite tõttu on tootmisprotsessis erinevusi. Erinevate kombineerimismeetodite lühike protsess on järgmine:
(1) Räninitriid kombineerituna ränikarbiidi tellisega: jämedatest, keskmistest ja peentest ränikarbiidi osakestest ja peenest ränipulbrist moodustunud roheline keha puhtas N2 gaasis 1370 kraadi juures annab struktuuri, mille SiC sisaldus on % 26 - skelett ja% 26 ja% 26 - Si3N4. Räninitriid kombineeritud ränikarbiidtellistega aluspinnaks. Tootes sisalduvas maatriksis on veel vähesel määral jääkräni ja SiO2 ning nende komponentide suhteline sisaldus varieerub olenevalt tootmistehasest.
(2) Ränikarbiidtelliste kombineerimine: SiC, ränipulber ja süsinikupulber segatakse ja moodustatakse teatud vahekorras ning põletatakse redutseerivas atmosfääris 1400 kraadi juures. Enamasti kasutatakse maetud söe põletamist. Põletamise käigus moodustub a% 26 - Si3N4-ga seotud SiC tellist, mille karkassiks on % 26 - SiC ja maatriksi tootmiseks on peenteraline% 26 - SiC 26 - SiC peene ränipulbri ja peene süsinikupulbri reaktsioonil põletusprotsessi ajal ning see toode sisaldab ka vähesel määral räni ja süsiniku jääkaineid.
(3) Ränioksünitriid kombineerituna ränikarbiidi tellisega: selle tellise valmistamisel peaks peene ränipulbri osakaal olema väiksem kui ränikarbiidil.